• BitMAT
  • BitMATv
  • Top Trade
  • Linea EDP
  • Itis Magazine
  • Industry 5.0
  • Sanità Digitale
  • ReStart in Green
  • Speciale Stampanti
  • Contattaci
Close Menu
LineaEDPLineaEDP
    Facebook X (Twitter) Vimeo Instagram LinkedIn RSS
    Trending
    • Everpure presenta l’architettura data-primacy per l’era dell’AI
    • Cybersecurity industriale: come costruire un SOC OT efficace
    • Operation Endgame smantella SocGholish, una delle principali minacce cyber
    • Schneider Electric e Motivair supportano l’espansione da 750 MW del campus Lake Mariner per HPC e Intelligenza Artificiale
    • Acronis TRU rivela l’evoluzione in corso del gruppo ransomware INC
    • Veeam On Tour 2026: dati, AI agentica e la nuova architettura della fiducia digitale
    • SYS-DAT cresce nel mercato legal
    • Sovranità dei dati a rischio con l’AI
    Facebook X (Twitter) Vimeo Instagram LinkedIn RSS
    LineaEDPLineaEDP
    • Cio
    • Cloud
    • Mercato
    • News
    • Tecnologia
    • Case History
    • Report
    • Sicurezza
    • IOT
    LineaEDPLineaEDP
    Sei qui:Home»Categorie Funzionali»Posizione Home-Page»Talend lancia Talend Cloud Summer 2018

    Talend lancia Talend Cloud Summer 2018

    By Redazione LineaEDP23/08/20182 Mins Read
    Facebook Twitter LinkedIn Reddit Telegram WhatsApp Email

    La nuova release amplia il supporto per l’integrazione dati serverless e ottimizza il DevOps

    E’ disponibile Talend Cloud Summer 2018, una nuova release della soluzione Talend che aggiunge funzionalità  cloud enterprise per migliorare la produttività  degli sviluppatori grazie all'integrazione e alla distribuzione continua (CI/CD) e che consente una maggiore agilità  con l'integrazione di dati serverless. Talend Cloud include, inoltre, una migliorata connettività  con Salesforce, una maggiore sicurezza aziendale e funzionalità  avanzate di preparazione, gestione e amministrazione dei dati.

    Le architetture serverless permettono agli sviluppatori di concentrarsi sulle attività  di programmazione senza doversi preoccupare della capacità  dei server o della gestione dell'infrastruttura. In questo modo, gli sviluppatori hanno la certezza di poter ottenere migliori prestazioni a costi inferiori; per fare ciò devono sfruttare le nuove tecnologie come i microservizi, i container e le piattaforme di orchestrazione come Kubernetes. Talend Cloud semplifica l'applicazione di queste tecnologie ai progetti di integrazione dei dati generando codice nativo che può essere eseguito in container Docker e distribuito sulle principali piattaforme di orchestrazione.

    La nuova release di Talend Cloud ottimizza ulteriormente gli ambienti DevOps grazie a una più stretta integrazione con Git e Jenkins Maven. Infatti, migliora significativamente il modo in cui gruppi di sviluppatori possono automatizzare e orchestrare l’intero processo di integrazione di attività di creazione, test e pubblicazione in Talend Cloud e in altri importanti ambienti cloud. Migliorando l'integrazione e i flussi di lavoro continui, la piattaforma Talend incrementa la collaborazione, migliora la qualità  del codice e accelera la distribuzione di nuovo codice in produzione attraverso l'automazione.

    Talend Talend Cloud Summer 2018
    Share. Facebook Twitter LinkedIn Reddit Telegram WhatsApp Email
    Redazione LineaEDP
    • Facebook
    • X (Twitter)

    LineaEDP è parte di BitMAT Edizioni, una casa editrice che ha sede a Milano con copertura a 360° per quanto riguarda la comunicazione rivolta agli specialisti dell'lnformation & Communication Technology.

    Correlati

    Everpure presenta l’architettura data-primacy per l’era dell’AI

    19/06/2026

    Schneider Electric e Motivair supportano l’espansione da 750 MW del campus Lake Mariner per HPC e Intelligenza Artificiale

    19/06/2026

    Veeam On Tour 2026: dati, AI agentica e la nuova architettura della fiducia digitale

    18/06/2026
    Newsletter

    Iscriviti alla Newsletter per ricevere gli aggiornamenti dai portali di BitMAT Edizioni.

    Security Words

    INFRASTRUTTURA APPLICATIVA: PROTEGGIAMOLA

    29/01/2024

    PASSWORD E STRATEGIA

    29/01/2024
    BitMATv – I video di BitMAT
    Perché sono importanti i protocolli?
    Titanium: l’evoluzione del Motion Control
    IA in azienda: obblighi normativi, governance e protezione dei dati
    Hilti Power Up Tour 2026: la piattaforma Nuron evolve per i cantieri del futuro
    2027: la nuova era della depurazione 5.0
    Defence Tech

    Cybersecurity industriale: come costruire un SOC OT efficace

    19/06/2026

    Operation Endgame smantella SocGholish, una delle principali minacce cyber

    19/06/2026

    Acronis TRU rivela l’evoluzione in corso del gruppo ransomware INC

    19/06/2026

    Anthropic Claude.ai trasformato in una trappola malware

    18/06/2026
    Report

    Sovranità dei dati a rischio con l’AI

    18/06/2026

    Cloud privato, svolta per l’AI nel 2026

    17/06/2026

    Deepfake: boom di frodi, ma solo il 7% delle aziende è pronto

    09/06/2026

    Fiducia nell’AI: solo il 7% delle aziende è davvero pronto

    04/06/2026
    Rete BitMAT
    • Bitmat
    • BitMATv
    • Top Trade
    • LineaEdp
    • ItisMagazine
    • Speciale Sicurezza
    • Industry 4.0
    • Sanità Digitale
    • Redazione
    • Contattaci
    NAVIGAZIONE
    • Cio
    • Cloud
    • Mercato
    • News
    • Tecnologia
    • Case History
    • Report
    • Sicurezza
    • IOT
    Chi Siamo
    Chi Siamo

    LineaEDP è una testata giornalistica appartenente al gruppo BitMAT Edizioni, una casa editrice che ha sede a Milano con una copertura a 360° per quanto riguarda la comunicazione online ed offline rivolta agli specialisti dell'lnformation & Communication Technology.

    Facebook X (Twitter) Instagram Vimeo LinkedIn RSS
    • Contattaci
    • Cookies Policy
    • Privacy Policy
    • Redazione
    © 2012 - 2026 BitMAT Edizioni - P.Iva 09091900960 - tutti i diritti riservati - Iscrizione al tribunale di Milano n° 293 del 28-11-2018 - Testata giornalistica iscritta al ROC

    Type above and press Enter to search. Press Esc to cancel.